1、高产量
2、靶材使用寿命的延长，利用率提高
3、系统正常运行时间的延长
4、应用支持人员
5、全球支持能力
AE 的直流电源产品主要通过物理气相沉积市场上主要使用的物理气象沉积工艺——合金溅射以及与有反应气体参与的反应溅射，AE电源广泛应用于以下制造市场，包括：
1、导体（铜、铝、钽、钛以及更新的异类材料）
2、板显示器（薄膜晶体管、彩色滤光片、有机 LED）
3、据存储（光存储、磁存储以及磁光存储相结合）
4、阳能光伏电池（透明导电氧化物和硅沉积）
5、筑玻璃
6、进产品应用（用于光学装置、工具涂层、塑料等的薄膜）
一、直流脉冲产品套件
AE 的脉冲产品系列具有各种功能，能够满足您所有的困难和各式各样的工艺要求。这个灵活的直流脉冲附件系列提供 10-200kW 的功率以及 2-100kHz 的固定和可变频率。这个系列的每一项产品在设计上均具有相当的特点，能够针对反应和直流溅射提供经证实的优势。
| 优势 | 特点 |
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·功能广泛 ·灵活的直流脉冲附件系列 ·通过允许在更大功率下运行，提高吞吐量 ·减少靶材污染 ·提高 10-200kW 的功率 ·提供 2-100kHz 的固定和可变频率 |
·出色的弧控制——在很多情况下，弧完 全被消除。 ·离子能量更高 ·更大功率运行 ·基材温度更低 ·靶材温度更低 ·工艺灵活性和宽容度 ·系统整合容易 ·双阴极功能（Astral® 产品） |
二、ASCENT® AP（先进脉冲）电源
前所未有的单/双极脉冲磁控溅射电源2013年，AE® 通过采用双极性脉冲直流技术为双极磁控溅射带来了新的技术革新，提供了前所未有的等离子体控制技术。Ascent AP电源在紧凑的单/双极磁控溅射方案中引入了额外的控制参数，使得功率输出更加优化。Ascent AP具有专利的脉冲技术，可以主动抑制电弧，其广泛的工作范围使得该电源可以应用于许多材料，拓展了制程的灵活性以及材料的不断创新。
优势
特点
·电介质膜和导电膜的精准溅射
·提供单磁控和双磁控配置
·增加制程控制的灵活性与创新性
·高性能的薄膜质量和产量
·镀膜重复性好，且满足多项定制要求
·更高功率等级，更少电弧损坏
·易于集成与控制
·输出波形可自定义，满足多种功率输出要求
·专利脉冲技术可以抑制消除电弧，保证更高功率输出，提高产能
·紧凑型单机解决方案（最大 30 kW）
·Set point compensation™ 技术确保稳定的功率输出
·应用于各种制程材料的广泛工作范围
三、拥有Arc Management System™ 技术的 Ascent® 直流电源
强大的 Ascent® 直流电源专门用于易产生电弧的工艺制程，它可以提供稳定功率，以获得可重复的高质量薄膜。严格的质量控制过程确保可达到最高可靠性。Effective Arc Management System™ 功能可以熄灭电弧，防止不必要的薄膜损坏或制程中断。同时 Set Point Compensation™ 技术可以平衡设定点与溅射率，即使在电弧非常频繁的情况下也能做到这一点。Ascent 电源配备了多种用户界面和虚拟前面板软件，易于设置和操作。您可以选择主/从装置，或利用 Arc-Sync™ 技术以多个相邻的阴极调节电源。不管您的配置如何，均可使用 Ascent 电源获得稳定、可重复的电源。
| 优势 | 特点 |
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·确保现场可靠性达到最高 ·高效地电弧管理以提高薄膜质量、生产效率、产量和利润 ·简化用于以下应用场合的建设镀膜制程中电源集成 *太阳能*FPD *工业镀膜 *卷绕镀膜 |
·30、40 和 60 kW 型号 ·已获得专利以及正在申请专利的 Arc Management System™ 技术 ·Set Point Compensation™ 技术·虚拟前面板 软件 ·远程控制前面板和被动前面板 ·RS-232/485、以太网、Profibus 和模拟通讯接口 ·可主/从叠加到最多12台 ·全天候技术支持 ·符合 RoHS标准 |
四、Pinnacle® 系列
业界公认的 Pinnacle® 直流电源平台具有绝佳的工艺一致性和控制功能，从而大大减少了工艺变化，提高了产量。这个紧凑、功能强大的套件提供了业界最低的存储能量、最快的弧反应以及最广的全功率运行阻抗范围。
| 优势 | 特点 |
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·最低的运行和安装成本 ·业界最快的弧反应时间 ·可配置的弧反应参数 ·最大的工艺效率 ·精确的工艺控制 |
·最低的存储能量——每千瓦输出不到 1mJ ·无需调节输出变压器 ·4:1的阻抗范围 ·靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 ·±0.1%的输出重复性 ·Joule 模式——最优化的能量传送 |
五、Pinnacle® Plus+
Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle® Plus+ 电源为单体直流脉冲电源，为您的反应工艺提供脉冲直流电解决方案所有优点，包括使用简单、节约成本以及具有绝佳的灵活性。结合标准直流电技术和经过工艺证明的脉冲直流电技术，Pinnacle Plus+ 电源与复杂而昂贵的交流电解决方案相比，沉积率更高，重复性能更好，薄膜质量更为优异。
| 优势 | 特点 |
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·更高的沉积率与产品率 ·薄膜均匀性和品质一流 ·成弧造成的基材损坏减少 ·成本更低 ·系统整合容易 ·极佳的工艺灵活性和宽容度 ·重复性能 ·在过度曲线上运行稳定 ·吞吐量更高 ·便于监控 ·无与伦比的系统灵活性 |
·一个紧凑型封装 ·频率调节范围为 5-350kHz ·占空比高达45% ·电压范围宽——单输出宽阻抗范围 ·大功率运行 ·基材温度低 ·单输出（5kW 和 10kW 型号） ·用于双阴极生产的双输出（双路5kW 型号） ·绝佳的弧控制 ·反应性溅射闭环控制 |
Advanced Energy 的 Pinnacle® 3000 直流电源提供最高的效率和功率因素，从而带来业界最低的运行和安装成本。 Pinnacle 工艺一致性和控制带来的额外好处是使在正常溅射工艺和偏压应用中的工艺变化明显减少、产量提高。
| 优势 | 特点 |
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·经过证明的 Pinnacle 性能和可靠性 ·最大的工艺效率——最低的运行和安装成本 ·通用性——在溅射工艺和偏压应用上均表现出色 ·快速、可配置的弧反应——弧损伤少 ·精确的工艺控制 ·多种显示/控制选择 ·符合安全/辐射标准 |
·业界最高的效率和功率因素 ·紧凑——在一个 2-U、1/2支架封装中，功率达 3000W ·单输出抽头，疲惫范围广泛 ·Profibus 和 RS-232 串行通信 ·靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 ·仅400 VAC 输入 ·存储能量低——每千瓦输出不到6 mJ ·在大于15%的功率下，输出重复性为±0.1% ·Joule 模式——最优化的能量传送 ·对输出电平、击穿电压和工艺电压的可编程限制 ·储存设定自动保存 ·有 CE 标志 |
七、Pinnacle® Diamond™
在工艺和偏压应用中，Pinnacle® Diamond™ 直流电源都能提供最高的效率和功率因素，从而带来业界最低的运行和安装成本。 Pinnacle 绝佳的工艺一致性和控制带来的额外益处是通过一个极其紧凑的部件大大减少了变化、提高了产量。
| 优势 | 特点 |
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·经过证明的 Pinnacle 性能和可靠性 ·最大的工艺效率——最低的运行和安装成本 ·通用性——在溅射工艺和偏压应用上均表现出色 ·快速、可配置的弧反应——弧损伤少 ·精确的工艺控制 ·多种显示/控制选择 ·符合安全/辐射标准 |
·业界最高的效率和功率因素 ·紧凑——在一个 2-U、1/2支架封装中，功率达 3000W ·单输出抽头，疲惫范围广泛 ·Profibus 和 RS-232 串行通信 ·靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 ·仅400 VAC 输入 ·存储能量低——每千瓦输出不到6 mJ ·在大于15%的功率下，输出重复性为±0.1% ·Joule 模式——最优化的能量传送 ·对输出电平、击穿电压和工艺电压的可编程限制 ·储存设定自动保存 ·有 CE 标志 |
MDX 500 在真空环境中经久耐用，能够在磁控环境中对不同类型的弧进行多级抑制和灭弧。在基本磁控溅射、射频偏压直流溅射以及直流偏压射频溅射中表现一流。其小巧的尺寸使其非常适合于实验室系统和小规模的生产环境。
| 优势 | 特点 |
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·超载内置保护 ·可靠性和耐用性 ·快速反应时间 ·兼容性认证 |
·多级弧抑制及灭弧 ·用户I/O接入 ·功率、电流或电压调节功能 |
九、MDX 系列1 kW 和1.5 kW
精密的调节功能、优良的灭弧和较低的存储输出能量使 MDX 系列直流电源成为业界的领先产品。由于在真空环境下的经久耐用，这些适应于恶劣环境的电源经常被作为直流磁控管溅射传动而受到广泛应用。该产品系列还提供精密的调节性能，如射频溅射中的偏压电源和蚀刻系统。紧密的设计使之成为实验室系统首选解决方案。
| 优势 | 特点 |
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·精密调节功能 ·提高产率 ·减少靶材烧入时间 ·高可靠性 ·简单维护和置换 |
·较低的存储输出能量 ·输出涟波很低 ·可调节抑弧时间 ·高效率 ·紧密的设计 ·电压、电流和电源调节模式 ·面板和类比界面控制 ·各种保护功能 |
